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2300 kiyo 系列

2300 kiyo 系列是Lam 12英寸多晶硅和導體膜膜蝕刻設備，一般根據(jù)平臺可配置1~6腔體。設備采用ICP蝕刻原理，獨立控制離子濃度和轟擊力量，方便調節(jié)工藝性能，以及生產穩(wěn)定。

產品特點

1.設備工藝套件損耗低，維護周期長
2.設備工藝易調節(jié)，且生產穩(wěn)定
3.可以對精細圖案蝕刻