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Sequel

Sequel是Novellus 基于DLCM平臺的PECVD設備，根據不同需求最多可以配置3個6station工藝腔，最多可以同時對18片wafer進行工藝處理。

產品特點

1.可選配雙硬盤系統。

2.可升級兼容透明片。

3.可按要求配置MC1-MC4控制器。